8月23-25日材料科学研究院院长许小红教授应邀在云南昆明参加了“中国电子学会应用磁学分会第九届全体委员暨学术交流会”，并作了题为《氧化物稀磁半导体的 n-p 共掺杂研究》的邀请报告。本次会议由中国电子学会应用磁学分会主办。参会委员就磁学和磁性材料相关研究和技术的前沿进行了热烈讨论，这对加强我国磁学与磁性材料领域基础研究和应用技术开发，促进同行之间的合作起到了积极推动作用。
